1. 패시베이션은 산화되도록 쉽지 않은 주로 금속의 표면을 바꾸기 위해 방법을 있고 금속의 부식 속도를 연기합니다. 어느 화학적 활성화도에서 활성 금속 또는 불순물
패시베이션은 매우 성을 감소시키고 귀중한 금속 상태가 되는 출현을 언급합니다.
2. 애노드 산화 : 전기분해의 원리를 이용함으로써 다른 금속의 박막 또는 약간의 금속의 표면적으로 불순물을 도금처리하는 공정을 언급합니다. 쇄자 표면 피복은 국부 도금 또는 수정을 위해 사용됩니다.
배럴 플레이팅은 파스너, 세탁기, 핀, 기타 등등과 같은 적은 부분을 위해 사용됩니다. 전해도금시킨 후, 그것은 끝난 기계적 제품에 보호하는 장식과 다양한 기능적 출현을 획득할 수 있습니다
층을 이루시오 그러면 그것은 또한 닳아 해지고 가공 워크피스를 보정할 수 있습니다. 전기 도금액은 여하튼 선택의 크롬 대리인들과 산성이고 알칼리성이고 산성이고 중성 용액을 포함합니다
3가지 도금 방법은 도금처리될 완성품과 도금 탱크, 걸기 도구, 기타 등등 3으로 어느 정도까지 보편적이어야 합니다. 분사하는 것 : 장비의 외부 보호를 위해 사용됩니다
장식은 보통 산화를 기초로 하여 실행됩니다. 알루미늄 프로파일은 굳게 제조 공정에 있는 제품으로 연결된 코팅을 만들기 위해 코팅하기 전에 미리처리되어야 합니다. 3가지 종류가 보통 있습니다
방법 : (1) 인산염 처리 (인산염 방법), (2) (자유로운 크롬) 크롬, (3) 케미컬 옥시데이션.
4. 초기의 효과인 샌드 블라스팅은 출현 마감입니다. (그림 또는 플라스틱 용사)를 페인트를 칠하기 전에 분사기로 닦는 것 접착의 개선에 어떤 기여를 가지고 있는 조도를 추가할 수 있습니다, 그러나
전혀 육성 피막 전처리에 충실한, 제한된 기여.
5. 케미컬 옥시데이션 : 산화막은 부드러워 구멍이 많은 0.5 ~ 4 미크론 두께에 대하여, 가늘고, 우수한 흡착작용을 가지고 있으며, 그것이 유기적인 코팅의 바닥층으로서 사용될 수 있습니다,
그러나, 그것의 마모 방지와 부식 저항성은 양극 산화막만큼 좋지 않습니다
6. 알루미늄과 알루미늄 합금박판의 화학적 산화 기술은 2가지 부문으로 분할될 수 있습니다 : 그것의 해법의 자연에 따른 알칼리성 산화 방법과 산성의 산화 방법. 영화의 특성에 따르면, 그것은 다음으로 분할될 수 있습니다 산화
재료막, 포스페이트 필름, 크로메이트 필름, 크롬산 포스페이트 필름. 전도성 있는 산화 (크롬산염 전환 영화) - 양쪽 보호하는 전도성 있는 이유를 위해 사용됩니다.
7. 물드는 것 : 컬러링 알루미늄을 위한 2 주요 기술이 있습니다 : 1는 알루미늄 산화발색법 기술이고 다른 것 알루미늄 전기영동 착색 기술입니다. 산화막에
다양한 색상은 애플리케이션 요구 사항을 충족시키기 위해 형성됩니다. 예를 들면, 광학 기구 부속은 종종 검고 기념 메달이 금빛 노랑색입니다.
8. 화학적 폴리싱은 그 해의 표면을 평평하게 하고 닦기 위해 산 또는 알카리 전해질 용액에 알루미늄과 알루미늄 합금의 선택적 본인 용해 영향입니다,
다음과 같은 화학 처리법은 조도와 pH 감소시키는데 사용됩니다. 이 폴리싱 방법은 단순한 장비, 어떤 전원 공급기도 가지지 않고, 제조 공정에 있는 제품의 외형 칫수에 의해 강요되지 않습니다
높은 던지는 고속과 낮은 프로세싱 비용. 알루미늄과 알루미늄 합금의 순도는 화학적 폴리싱의 품질에 미치는 큰 영향을 가집니다. 그것의 순도는 더 높습니다,
더 잘 연마 품질은 그것이 인 패배입니다.
9. 전기 화학 적 산화. 알루미늄과 알루미늄 합금박판을 위한 케미컬 옥시데이션 처리 설비는 작동하도록 단순하고 쉽습니다, 다량 생산 효율과 어떤 소비 전력과 폭넓은 응용이 이르지 않습니다,
그것은 부분의 크기와 모양에 의해 강요되지 않습니다. 산화막의 두께는 높은 것으로, 5 ~ 20 마이크론에 대한 것입니다 (단단한 양극 산화막의 두께가 60 ~ 200 마이크론에 도달할 수 있습니다)
견고성, 우수한 열저항성과 단열, 높게 화학적 산화막, 구멍이 많은, 우수한 흡착 능력 보다 부식 저항성.
