인산염 처리는 화학의 공정이고 인산염화된 필름이라고 불리는인 화학적인 전환막을 인산 광물을 형성하기 위한 전기 화학 반응입니다. 주로 인산염 처리의 목적은 기반 금속을 위한 보호를 제공하고 어느 정도까지 금속을 부식에서 막는 것입니다 ; 그것은 도료 막의 접착과 부식 저항성을 향상시키기 위해 페인트를 칠하기 전에 프라이밍을 위해 사용됩니다 ; 그것은 금속 냉간 가공 공정에서 안티프리션 주유를 위해 사용됩니다.
1. 원리 :
인산염화된 절차는 화학적이고 전기 화학 반응을 포함합니다. 다른 인산염화된 시스템과 물질의 인산염화된 반응 메카니즘은 복잡합니다. 비록 과학자들이 이 지역에서 많은 연구를 했지만, 그들은 아직 완전히 그것을 이해하지 않았습니다. 오래전에, 인산염화된 막 형성 메카니즘은 단순히 화학적 반응 반응 식에 의해 묘사되었습니다 :
8Fe+5Me (H2PO4) 2+8H2O+H3PO4Me2Fe (PO4) 2 · 4H2O (membrane)+Me3 (PO4) · 4H2O (membrane)+7FeHPO4 (sediment)+8H2 ↑
나는 그 인산을 포함하는 고온 수용액에 몰입한 스틸을 여겨진 Mn, 아연, 기타 등등 마추, 기타 등등이고 디히드로겐 인산염은 인산염 처리 영화가 인산염 침적을 구성했고, 인산 광물 철 수소 침전물과 수소를 생산하라고 수정체를 형성할 것입니다. 이 메커니즘에 대한 설명은 완전히 오히려 거칠고, 성막 처리를 설명할 수 없습니다. 인산염화된 연구의 점진적 디프닝으로 오늘 인산염화된 성막 처리가 주로 다음과 같은 4 단계로 구성된다는 것에 학자들은 동의합니다 :
① 산성 부식은 기반 금속의 표면에 H+concentration을 감소시킵니다
Fe - 2e→ Fe2+
2H2-+2e→2[H] (1)
H2
② 급결제 (산화제)
[O]+[H] → [R]+H2O
Fe2++[O] → Fe3++[R]
분유에, [O]는 가속기 (산화제) 이고 [R]가 감소 제품입니다. 더욱 가속기가 반응의 첫 번째 단계에서 발생한 수소 원자를 산화시키기 때문에, 금속 표면에 H+concentration의 폭락으로 이어지는 반응 속도는 (1) 가속화됩니다. 동시에, Fe2+in 솔루션이 Fe3+로 산화됩니다.
인산 광물의 ③ 다단계 분리
H3PO4 H2PO4-+H+ HPO42-+2H+ PO43-+3H- (3)
금속 표면 위의 H+concentration의 폭락 때문에, 모든 수치에 있는 인산염의 해리 평형은 권리와 마침내 PO43에 이동합니다 -.
④ 인산 광물은 인산염 처리 영화로 촉진시키고 결정화시킵니다
때 PO43 - Zn2+, Mn2+, Ca2+, Fe2+로서 (그와 같은 금속 이온과 용해도곱 상수 크스피를 금속 표면 한계로부터 해리되) 솔루션 (금속 계면)에서, 인산염 프리시피테이션이 형성될 것입니다
Zn2++Fe2++PO43-+H2O→Zn2Fe(PO4)2·4H2O↓ (4)
3Zn2++2PO43-+4H2O=Zn3(PO4)2·4H2O↓ (5)
인산염 프리시피테이션과 물 분자는 함께 인산염화된 결정핵을 형성하며, 그것이 계속 인산염화된 곡물로 성장하고 수많은 곡물이 형이상학적으로 인산염화된 필름을 형성하기 위해 밀접하게 쌓입니다.
인산염 프리시피테이션의 부반응은 인산염화된 침전물을 형성할 것입니다
Fe3++PO43-=FePO4 (6)
위에서 말한 메커니즘은 또한 아연 시리즈, 망간 시리즈와 아연 칼슘 시리즈의 인산염화된 성막 처리를 설명할 뿐만 아니라, 인산염화된 방식과 과정의 설계를 안내할 수 있습니다. 위에서 말한 메커니즘으로부터, 적절한 산화제가 반응 속도 (2)를 향상시킬 수 있다는 것이 보일 수 있습니다 ; 더 낮은 H+concentration은 인산 광물 분리 효과 반응 (3)의 해리 평형이 PO43을 해리하기 위해 더 쉽게 권리에 이동하게 할 수 있습니다 - ; 금속 표면에 굳어지는 활성 포인트 표면이 있다면 프리시피테이션 반응 (4) (5)는 또한 많은 과포화 없이 인산염 프리시피테이션 핵을 형성할 수 있습니다 ; 인산염화된 침전물의 세대는 반응 (1)와 반응 (2)에 의존합니다. H+in 솔루션과 강한 가속기의 고농도는 침전물을 증가시킬 것입니다. 따라서, 실제 인산염 처리 방식과 프로세스 구현에, 표면은 다음과 같습니다 : 적절한 강한 가속기 (산화제) ; 높은 산비 (상대적으로) ; 활성 포인트를 가지기 위해 금속 표면을 조정하는 것 인산염화된 반응 속도를 향상시킬 수 있고, 빨리 저온에서 영화를 형성할 수 있습니다. 그러므로, 위에서 말한 니즘은 일반적으로 저온 빠른 인산염화된 방식의 설계에서 따르게 되고 강한 가속기, 높은 산비, 표면 조정 과정, 기타 등등이 선택됩니다.
인산염 처리 침전물에 대하여. 인산염화된 침전물이 주로 Fe3+must의 양인 FePO4이기 때문에 침전물의 양을 감소시키기 위해 감소되세요. 말하자면, 2가지 방법은 채택됩니다 : Fe2+to Fe3+의 산화를 감소시키기 위해 인산 용액 (낮은 유리 산도)의 H+concentration을 감소시키세요.
아연과 알루미늄의 인산염화된 메커니즘은 상기사실과 근본적으로 같습니다. 징크 소재의 인산염화된 속도는 빠르고 인산염화된 영화가 유일한 채 징크 인산염으로 구성되고 침전물이 거의 있지 않습니다. 일반적으로, 더 많은 플루오르 화합물은 AlF3과 AlF63을 형성하기 위해 알루미늄 인산염 처리에 추가됩니다 -. 알루미늄 인산염화된 단계 중합의 메커니즘은 상기사실과 근본적으로 같습니다.
2. 인산염화된 분류
인산염 처리를 위한 많은 분류 방법이 있지만, 그러나 그들이 일반적으로 인산염화된 필름 성형 시스템, 인산염화된 막두께, 인산염 처리 온도와 가속기 유형에 따라 분류됩니다.
2.1 인산염화된 필름계에 따른 분류
인산염화된 필름 성형 시스템에 따르면, 그것은 주로 6가지 부문으로 분할됩니다 : 아연 시스템, 아연 칼슘 계열, 아연 망간계, 망간계, 철 계통과 비결정질 철 시스템.
인산 아연 처리 베스 솔루션의 주성분은 다음과 같습니다 : Zn2+, H2PO3 -, NO3 -, H3PO4, 촉매, 기타 등등. 형성된 인산염 처리 영화 (강철 부품)의 주요 조성물 : Zn3 (po4) 2 · 4H2O, Zn2Fe (PO4) 2 · 4H2O. 인산염함유 곡물은 모수석이고 바늘 모양이고 구멍이 많습니다. 그것은 넓게 그림, 부식 방지와 저온 작업 감마재 주유 전에 프라이밍을 위해 사용됩니다.
아연 칼슘 인산염 처리 조 솔루션의 주성분은 다음과 같습니다 : Zn2+, Ca2+, NO3 -, H2PO4 -, H3PO4와 다른 첨가제. 인산염화된 영화 (강철 부품)의 주요 조성물 : Zn2Ca (PO4) 2 · 4H2O, Zn2Fe (PO4) 2 · 4H2O, Zn3 (PO4) 2 · 4H2O. 인산염함유 곡물은 극소수 기공으로 소형 낟알입니다 (때때로 곡물과 같은 큰 바늘로). 그것은 페인트를 칠하기 전에 프라이밍과 부식 방지를 위해 사용됩니다.
아연 망간 인산염 처리 조 솔루션의 주요 조성물 : Zn2+, Mn2+, NO3 -, H2PO4 -, H3PO4와 다른 첨가제. 인산염화된 영화의 주요 조성물 : Zn2Fe (PO4) 2 · 4H2O, Zn3 (PO4) 2 · 4H2O, (Mn, Fe) 5H2 (PO4) 4 · 4H2O. 인산염화된 곡물은 극소수 기공과 과립 모양 바늘 모수석 혼정 형식으로 있습니다. 그것은 넓게 저온 작업 동안 그림, 부식 방지와 감마재 주유 전에 프라이밍을 위해 사용됩니다.
망간 인산염 처리 조 솔루션의 주요 조성물 : Mn2+, NO3 -, H2PO4, H3PO4와 다른 첨가제. 인산염화된 영화의 주요 조성물은 강철 부품위에 형성했습니다 : (Mn, Fe) 5H2 (PO4) 4 · 4H2O. 인산염화된 영화는 극소수 기공으로 두껍고 인산염화된 곡물이 밀집합니다. 그것은 넓게 부식 방지와 저온 작업 감마재 주유에서 사용됩니다.
철 인산염 처리 조 솔루션의 주요 조성물 : Fe2+, H2PO4, H3PO4와 다른 첨가제. 인산염화된 영화 (강철 워크피스)의 주요 조성물 : Fe5H2 (PO4) 4 · 4H2O. 인산염화된 영화는 두껍고, 인산염화된 고온이 높고, 처리시간이 오랫동안 있고, 영화가 다수 기공을 가지고 있으며,와 인산염화된 곡물이 과립 모양입니다. 그것은 부식 방지와 저온 작업 감마재 주유를 위해 사용됩니다.
비결정질 철 인산염 처리 조 솔루션의 주성분 : Na+(NH4+), H2PO4, H3PO4, MoO4 - (ClO3 -, NO3 -)와 다른 첨가제. 인산염화된 영화 (강철 부품)의 주요 조성물 : Fe3 (PO4) 2 · 8H2O, Fe2O3. 인산염화된 영화는 가늘고 극소 막 구조가 비정질상의 평면 분포이며, 그것이 페인트를 칠하기 전에 단지 프라이밍을 위해 사용됩니다.
2.2 인산염화된 영화의 두께에 따른 분류
인산염화된 필름 (체중의 인산염화된 필름)의 두께에 따르면, 그것은 4 형으로 분할될 수 있습니다 : 서브 경량, 경량, 서브 유력자와 유력자. 중량의 이차적 가벼운 영화는 0.1~1.0g/m2 일 뿐입니다. 일반적으로, 그것은 무정형인 철 계통 인산염 처리 영화이며, 그것이 특히 큰 변형된 제조 공정에 있는 제품을 위해, 페인트를 칠하기 전에 단지 프라이밍을 위해 사용됩니다. 가벼운 영화는 1.1~4.5 g/m2를 심사숙고하고, 페인트를 칠하기 전에 넓게 프라이밍을 위해 사용되지만, 더 부식 방지와 추운 처리 산업에 사용했습니다. 서브의 두께는 무거운 인산염화된 영화는 4.6 ~ 7.5 g/m2입니다. 큰 필름 중량 때문에, 영화는 그것이 더 그림 전에 프라이머로 이용하는 (단지 근본적으로 비 이형 형강 부분을 위해 페인트를 칠하기 전에 프라이머로서 사용됩니다) 두꺼운 (generally>3 μ m) 이고, 마찰과 주유를 감소시키기 위해 부식 방지와 냉간 가공을 위해 사용될 수 있습니다. 두꺼운막은 7.5 g/m2 이상을 심사숙고하고, 페인트를 칠하기 전에 프라이머로서 사용되지 않습니다. 그것은 넓게 부식 방지와 저온 작업을 위해 사용됩니다.
2.3 인산염화된 처리온도에 따른 분류
처리온도에 따르면, 그것은 정상 온도, 저온, 매체 온도와 고온으로 분할될 수 있습니다. 정상 온도 인산염 처리는 어떤 가열 인산염 처리가 아닙니다. 저온 인산염 처리의 일반적 처리온도는 30-45 Ｃ입니다. 매체 온도 인산염 처리는 일반적으로 60~70 Ｃ입니다. 고온 인산염 처리는 일반적으로 80 Ｃ보다 더 큽니다. 온도 세분화 방법 자체는 엄격하지 않습니다. 때때로 각각 사람의 희망에 따라서, 서브 매체 온도와 서브 고온법이 있지만, 그러나 위에서 말한 분할 방법이 일반적으로 따르게 됩니다.
2.4 가속기 타입에 따른 분류
거기는 인산염화된 촉매의 극소수 종류 일 뿐이기 때문에, 촉매의 종류에 따라 베스 솔루션을 이해하는 것은 도움이 됩니다. 인산염화된 처리온도는 일반적으로 촉매의 유형에 따라 결정될 수 있습니다, 예를 들면, NO3 촉매가 주로 매체 온도 인산염 처리입니다. 가속기는 주로 나이트레이트계, 아질산염 타입, 클로레이트 타입, 유기적 질화형, 몰리브덴산염 타입과 다른 주요 유형으로 분할됩니다. 각각 가속기 타입은 다른 가속기와 함께 사용될 수 있고 많은 브랜치 시리즈가 있습니다. 나이트레이트계는 다음을 포함합니다 : NO3 - 타입, NO3 -/NO2 - (자생 타입). 클로레이트 타입은 다음을 포함합니다 : ClO3 -, ClO3 -/NO3 -, ClO3 -/NO2 -. 아질산염은 다음을 포함합니다 : 니트로구아니딘 Ｒ - 이산화 질소 -/ClO3 -. 몰리브덴산염 타입은 MoO4를 포함합니다 -, MoO4 -/ClO3 -, MoO4 -/NO3 -.
인산염 처리를 분류하기 위한 많은 방법이 있습니다, 예를 들면, 그것이 소재에 의해 강철 부품, 알루미늄 부분, 아연 부품과 혼합된 부품으로 분할될 수 있습니다.
인산염 처리 전에 2、 전처리
일반적으로, 가공품 표면이 청정 금속 표면이어야 할 것을 인산염화된 치료는 요구합니다 (1에서 1, 3과 1에서 4에서 2를 제외하고). 포스파이팅, 제조 공정에 있는 제품은 그리스, 녹, 산화물 피막과 표면 조정을 제거하기 위해 미리처리되어야 합니다. 특히, 페인트를 칠하는 것 전에 프라이밍을 위한 인산염 처리는 표면 조정이 금속 표면이 획일적이고 좋고 밀집하는 인산염화된 필름을 획득하기 위해, 특정 활동을 가지고 있게 하고, 도료 막의 접착과 부식 저항성을 향상시키는 요구조건을 충족시키도록 요구합니다. 그러므로, 인산염화된 전처리는 고품질 인산염화된 영화를 획득하기 위한 원칙입니다.
1. 유지를 제거하세요
그리스 제거의 목적은 제조 공정에 있는 제품의 표면에 대한 그리스와 기름기 있는 때를 제거하는 것입니다. 기계적 방법과 화학적 방법을 포함하여. 기계적 방법은 주로 수공 도장, 샌드 브라스팅과 샷 블라스팅, 불꽃 연소, 기타 등등을 포함합니다. 화학적 방법은 주로 솔벤트 세척, 산성 제거 작용제 세정, 강한 알칼리 용액 세정과 낮은 알칼리성 세정제 세정을 포함합니다. 다음은 화학적 탈지 공정을 설명합니다.
1.1 솔벤트 세척
일반적으로 방법이 익숙한 용매는 비 가연성 할로겐화 탄화수소 기욕법 또는 유화 방법에 의해 그리스를 제거합니다. 가장 일반적인 방법은 그리스를 제거하기 위해 트리클로로에탄, 트리클로로에틸렌과 퍼클로로에틸렌 증기를 사용하는 것입니다. 스팀 디그리싱은 빠르고, 효율적이고, 깨끗하고 철저하고, 모든 종류의 기름과 그리스에 대한 매우 좋은 제거 효과를 가집니다. 에멀젼의 특정한 양을 염소화탄화수소에 부가하는 것 양쪽은 안에 젖고 분사한다는 좋은 효과를 가집니다. 염화 할로겐과 높은 기화 온도의 독성 때문에 새로운 수용성 낮은 알칼리성 세정제들의 외모뿐만 아니라 용제 증기와 로션 탈지 방법은 좀처럼 지금 사용되지 않습니다.
